（本文约4800字，阅读约需12分钟） 本文目录 引言——芯片战争的“双面叙事” 攻方出牌——美国及其盟友在“卡”什么 守方反击——中国在“卡”什么 攻防转换——谁在承受更大的代价？ 给普通人的视角——如何看待这场博弈？ 结语——芯片战争的本质
在中国工业界，有一个流传已久的说法——“工业皇冠上的明珠”。它指的是那些技术难度极高、制造工艺极其复杂、代表人类工业文明最高水平的尖端产品。2025年7月，国家发展改革委主任郑栅洁在国新办发布会上宣布：中国集齐了船舶工业皇冠上的“三颗明珠”——第一艘国产电磁弹射航母福建舰下水、第一艘国产大型邮轮“爱
引言 想象一下这样一个市场：少数几家公司生产的产品，只占整个行业总产量的很小一部分，却拿走了行业将近一半的收入。这不是奢侈品行业，也不是高端白酒——这是7纳米及以下先进制程芯片的真实写照。2025年，全球半导体市场规模突破6200亿美元。其中，7纳米及以下制程芯片贡献了超过38%的营收。在晶圆代工领
一、引言：一场没有硝烟的城市竞赛 国产EUV光刻机的突破，不仅仅是一家企业或一个实验室的事。在这场关乎中国半导体产业命运的攻坚战中，各大城市都在暗中角力——上海有上海微电子，北京有中科院微电子所，武汉有光谷……但如果说谁最有希望率先交出一份“接近量产级”的答卷，我的判断是：深圳。这不是出于对深圳的偏
一、引言：常规追赶的“时间表”与现实的残酷 如果按照传统的技术追赶路径，中国要想实现5nm以下先进制程的稳定量产，时间表并不乐观。韩国半导体产业协会执行董事安基贤明确表示，中国在2030年前实现EUV大规模量产“极不可能”。汉阳大学EUV专家安镇浩教授更直言，即使是尼康、佳能这些曾在光刻机领域长期称
一、引言：光刻机——半导体工业的“命门” 光刻机是芯片制造最核心的设备，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。而在光刻机的所有子系统之中，光源系统又是最核心的“心脏”——谁掌握了先进光源，谁就掌握了芯片制造的命脉。目前，全球光刻机市场被荷兰ASML、日本Nikon和Canon所垄断，其中ASML在高端D
读完本文，关于下面几个问题你会得到一个清晰的答案： 基本原理：用瑞利公式说明波长如何决定分辨率 DUV时代：193nm光源能做什么，多重曝光能把它推到多远 EUV时代：为什么7nm以下是必须，13.5nm光源的极限在哪 未来方向：High-NA EUV能走到哪，物理极限何时到来 为避免混淆，文中依然
