提到“芯片”，你可能会想到“纳米”、“光刻机”这些词；提到“操作系统”，你可能马上想到Windows或安卓。但你可能没有注意到，这两个看似各自独立的领域，正在深圳龙岗区发生一场“芯魂合一”的实验——开源鸿蒙（Open Harmony）和 RISC-V，一个管“魂”（操作系统），一个管“芯”（芯片架构
一、引言：一场没有硝烟的城市竞赛 国产EUV光刻机的突破，不仅仅是一家企业或一个实验室的事。在这场关乎中国半导体产业命运的攻坚战中，各大城市都在暗中角力——上海有上海微电子，北京有中科院微电子所，武汉有光谷……但如果说谁最有希望率先交出一份“接近量产级”的答卷，我的判断是：深圳。这不是出于对深圳的偏
一、引言：常规追赶的“时间表”与现实的残酷 如果按照传统的技术追赶路径，中国要想实现5nm以下先进制程的稳定量产，时间表并不乐观。韩国半导体产业协会执行董事安基贤明确表示，中国在2030年前实现EUV大规模量产“极不可能”。汉阳大学EUV专家安镇浩教授更直言，即使是尼康、佳能这些曾在光刻机领域长期称
一、引言：光刻机——半导体工业的“命门” 光刻机是芯片制造最核心的设备，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。而在光刻机的所有子系统之中，光源系统又是最核心的“心脏”——谁掌握了先进光源，谁就掌握了芯片制造的命脉。目前，全球光刻机市场被荷兰ASML、日本Nikon和Canon所垄断，其中ASML在高端D
读完本文，关于下面几个问题你会得到一个清晰的答案： 基本原理：用瑞利公式说明波长如何决定分辨率 DUV时代：193nm光源能做什么，多重曝光能把它推到多远 EUV时代：为什么7nm以下是必须，13.5nm光源的极限在哪 未来方向：High-NA EUV能走到哪，物理极限何时到来 为避免混淆，文中依然
提到芯片，估计印象最深的就是多少多少纳米，数字越小往往代表技术越先进，对应价格也越昂贵。比如目前最”先进“制程已经到了2纳米、甚至到了埃米级（1埃米=0.1纳米）。当芯片的制程从初始的“微米”到“埃米”一直进化，其数字背后的真实技术演进与营销迷雾也许比芯片制程本身更为有趣。本文试着用通俗易懂的语言为
